技术配置1、分光系统
l帕型-龙格结构；
l波长5261范围170nm～510nm；
高精度光刻4102蚀整体狭缝，可通过折射镜微调通道偏差；
凹面全息光栅，750mm焦距；
光栅刻线2400条/mm；
一级光谱线色散率0.55nm/mm；
整体铸造光室，可保证光室真空度工作在10Pa以下。
分光系统采用动态安装，避免温度、光室真空形变及机械应力变化的影响；
自动恒温系统，保证光室温度36℃±0.5℃；
具有震动保护功能。
2 真空系统
      特殊设计的真空系统，保证了光室稳定的高真空度，进而提高了光学系统的稳定性；
特殊设计的前光路，可在保证光源激发光斑稳定的情况下，限度地提高了光室进光量。
3 样品激发台
     激发室的特殊设计，使清洁工作更加便利；
更小的激发空间，使氩气消耗更小；
特制的样品压杆，使日常分析时更换样品更加方便；
开放式样品激发台可适应各种大小、更多形状样品的分析；
具有电自保护回路，使电使用寿命更长、清洁电更加容易；
透镜部分的结构设计，使透镜拆装、擦拭更方便，氩气的冲洗设计更可以延长透镜清洗周期。
4 光源
    单向低压脉冲火花光源，频率可达312Hz；
高能预然技术；
可调的多种预燃条件和积分条件；
可实现多火花分组测量，提高分析精度；
所有激发参数由计算机系统控制；
具有过流监测、短路保护功能；
放电为组合式单向放电，可实现低、中、高三种激发能量切换；
放电电流可达100A。
5 数据采集系统
      数据采集箱中，各部分均采用模块化组合设计，使装配维护更加便利；

l对设备的各种电压状态、光室温度、氩气压力、真空度等进行检测和控制，当计算机死机或关机时，仍可保证这部分的持续可控。